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Eksma 適用于皮秒應用的高功率激光反射鏡

簡要描述:Eksma 適用于皮秒應用的高功率激光反射鏡
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設計。這些反射使用的IBS鍍膜技術生產。反射鏡的設計波長為515 nm或1030 nm,反射值R> 99.9%。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:955

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 適用于皮秒應用的高功率激光反射鏡


Eksma 適用于皮秒應用的高功率激光反射鏡

高損傷閾值激光反射鏡專為納秒級激光應用而設計。使用的IBS鍍膜技術生產。

產品介紹

新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設計。這些反射使用的IBS鍍膜技術生產。反射鏡的設計波長為515 nm或1030 nm,反射值R> 99.9%。

在ISO標準21254-2 1000-on-1條件下,以10 ps脈沖,20 kHz的反射鏡設計波長測量激光誘導的損傷閾值。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

產品型號

設計波長 - 343 nm, LIDT @ 10 ps, 50 kHz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0343PHR

343 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.8%

>0.9 J/cm²

041-0343PHR-i0

343 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.8%

>0.9 J/cm²

042-0343PHR

343 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.8%

>0.9 J/cm²

042-0343PHR-i0

343 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.8%

>0.9 J/cm²

045-0343PHR

343 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.8%

>0.9 J/cm²

045-0343PHR-i0

343 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.8%

>0.9 J/cm²

設計波長 - 515 nm, LIDT @ 10 ps, 20 kHz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0515PHR

515 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>1 J/cm²

041-0515PUHR

515 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>2.5 J/cm²

041-0515PHR-i0

515 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>1 J/cm²

041-0515PUHR-i0

515 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>2.5 J/cm²

041-0515PHR-i0-45

515 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

0-45°

99.9%

>1 J/cm²

042-0515PHR

515 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>1 J/cm²

042-0515PUHR

515 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>2.5 J/cm²

042-0515PHR-i0

515 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>1 J/cm²

042-0515PUHR-i0

515 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>2.5 J/cm²

042-0515PHR-i0-45

515 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

0-45°

99.9%

>1 J/cm²

045-0515PHR

515 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>1 J/cm²

045-0515PUHR

515 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>2.5 J/cm²

045-0515PHR-i0

515 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>1 J/cm²

045-0515PUHR-i0

515 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>2.5 J/cm²

045-0515PHR-i0-45

515 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

0-45°

99.9%

>1 J/cm²

設計波長 - 1030 nm, LIDT @ 10 ps, 20 kHz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-1030PHR

1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>1.5 J/cm²

041-1030PUHR

1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>3 J/cm²

041-1030PHR-i0

1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>1.5 J/cm²

041-1030PUHR-i0

1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>3 J/cm²

041-1030PHR-i0-45

1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

0-45°

99.9%

>1.5 J/cm²

042-1030PHR

1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>1.5 J/cm²

042-1030PUHR

1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>3 J/cm²

042-1030PHR-i0

1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>1.5 J/cm²

042-1030PUHR-i0

1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>3 J/cm²

042-1030PHR-i0-45

1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

0-45°

99.9%

>1.5 J/cm²

045-1030PHR

1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>1.5 J/cm²

045-1030PUHR

1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>3 J/cm²

045-1030PHR-i0

1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>1.5 J/cm²

045-1030PUHR-i0

1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>3 J/cm²

045-1030PHR-i0-45

1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

0-45°

99.9%

>1.5 J/cm²

設計波長 - 515+1030 nm, LIDT @ 10 ps, 50 kHz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

061-5103PHR

515+1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>1 J/cm²

061-5103PHR-i0

515+1030 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>1 J/cm²

062-5103PHR

515+1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>1 J/cm²

062-5103PUHR

515+1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

>2 J/cm²

062-5103PHR-i0

515+1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>1 J/cm²

062-5103PUHR-i0

515+1030 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.5%

>2 J/cm²

065-5103PHR

515+1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>1 J/cm²

065-5103PHR-i0

515+1030 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>1 J/cm²

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 at 633 nm

S1表面質量

20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質量

簡單拋光

直徑公差

+0.00 mm / -0.12 mm

厚度公差

±0.25 mm

< 3 min

倒角

0.3 mm at 45° typical

 

鍍膜

技術

離子束濺射(IBS)

附著力和耐久性

根據MIL-C-675A,不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過直徑的85%

鍍膜表面平整度

通光孔徑下633 nm處的λ/ 10

激光引起的損傷閾值

在設計波長下測量,脈沖為10 ps,頻率為20 kHz

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

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